產品展示

硅片CMP拋光液

名稱:硅片CMP拋光液
詳細信息 :

產品名稱

pH

磨料濃度(%

比重

粒徑(nm

粘度

25℃ mPa.s

氧化鈉含量(%

外觀

UPP/SS010

10.012.0

38±2

1.2501.285

60~90

<10

0.3

乳白

UPP/SS015

10.012.0

38±2

1.2501.285

60~90

<10

0.3

乳白

UPP/SS065

10.012.0

38±2

1.2501.285

60~90

<10

0.3

乳白

UPP/SS165

10.012.0

38±2

1.2501.285

100~120

<10

0.3

乳白

UPP/SS070

10.012.0

38±2

1.2501.285

60~90

<10

0.3

乳白

UPP/SS010、UPP/SS015、UPP/SS065、UPP/SS165、 UPP/SS070型硅材料CMP漿料采用SiO2水溶膠作為磨料,具有金屬雜質沾污極少、易清洗、拋光速率高、損傷層小、平整度高等特點。在拋光工藝中根據需要可以優化不同配比,均能達到使用效果。與同類產品相比,該類產品具有濃縮度高、磨料粒徑均勻、表面張力小、易清洗、拋光速率高、高溫不出現非均化蝕坑等優點。






版權所有 © 2007-2014  拋光液|硅片拋光液|硅溶膠|湖北海力天恒納米科技有限公司
公司地址:湖北黃州火車站經濟開發區鷹嶺二路黃岡化工園    聯系人:李先生   Mobile:18962786978

E-mail:[email protected]

國家工業和信息化部網站備案編號:鄂ICP備17006406號

财富小姐免费试玩